2019 Gas de grabado de buena calidad 99.999% Puridad CF4 Tetrafluorometano CF4 Gas

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Nuestra empresa tiene como objetivo operar fielmente, sirviendo a todas nuestras perspectivas y trabajar en nueva tecnología y nueva máquina con frecuencia paraGas de gas CF4 de China y tetrafluoruro de carbonoLa satisfacción del cliente es siempre nuestra búsqueda, crear valor para los clientes es siempre nuestro deber, una relación comercial mutua a largo plazo es para lo que estamos haciendo. Somos un socio absolutamente confiable en su caso en China. Por supuesto, también se pueden ofrecer otros servicios, como consultoría.

Parámetros técnicos

El tetrafluoruro de carbono es un hidrocarburo halogenado con la fórmula química CF4. Se puede considerar como un hidrocarburo halogenado, metano halogenado, perfluorocarbono o como un compuesto inorgánico. El tetrafluoruro de carbono es un gas incoloro e inodoro, insoluble en agua, soluble en benceno y cloroformo. Estable bajo temperatura y presión normales, evite oxidantes fuertes, materiales inflamables o combustibles. Gas no combustible, la presión interna del contenedor aumentará cuando se exponga al alto calor, y existe el peligro de agrietarse y explosión. Es químicamente estable y no inflable. Solo el reactivo de metal de amonium-sodio líquido puede funcionar a temperatura ambiente. El tetrafluoruro de carbono es un gas que causa el efecto invernadero. Es muy estable, puede permanecer en la atmósfera durante mucho tiempo y es un gas de efecto invernadero muy poderoso. El tetrafluoruro de carbono se usa en el proceso de grabado de plasma de varios circuitos integrados. También se usa como gas láser, y se usa en refrigerantes de baja temperatura, solventes, lubricantes, materiales aislantes y refrigerantes para detectores infrarrojos. Es el gas de grabado de plasma más utilizado en la industria de la microelectrónica. Es una mezcla de gases de alta pureza de tetrafluorometano y gas de alta pureza de tetrafluorometano y oxígeno de alta pureza. Se puede usar ampliamente en silicio, dióxido de silicio, nitruro de silicio y vidrio de fosfosilicato. El grabado de materiales de película delgada como tungsteno y tungsteno también se usa ampliamente en la limpieza de la superficie de dispositivos electrónicos, producción de células solares, tecnología láser, refrigeración a baja temperatura, inspección de fugas y detergente en la producción de circuitos impresos. Utilizado como una tecnología de grabado en seco y refrigerador de plasma a baja temperatura para circuitos integrados. Precauciones para el almacenamiento: almacene en un almacén de gas sin combustible ventilado y ventilado. Manténgase alejado de las fuentes de fuego y calor. La temperatura de almacenamiento no debe exceder los 30 ° C. Debe almacenarse por separado de combustibles y oxidantes fácilmente (combustibles), y evitar el almacenamiento mixto. El área de almacenamiento debe equiparse con equipos de tratamiento de emergencia de fuga.

Solicitud:

① Refrigerante:

El tetrafluorometano a veces se usa como refrigerante a baja temperatura.

② Grabado:

Se usa en microfabricación electrónica sola o en combinación con oxígeno como grabado en plasma para silicio, dióxido de silicio y nitruro de silicio.

Paquete normal:

Ventaja:

① Algana pureza, última instalación;

②SO Fabricante de certificados;

③ entrega rápida;

④ Sistema de análisis de línea para control de calidad en cada paso;

⑤ Alto requisito y proceso meticuloso para manejar el cilindro antes de llenar;Nuestra empresa tiene como objetivo operar fielmente, sirviendo a todas nuestras perspectivas y trabajar en nueva tecnología y una nueva máquina con frecuencia para 2019 Gas de grabado de buena calidad 99.999% Purity CF4 Tetrafluorometano CF4 Gas, ¡damos la bienvenida a los clientes de todo el mundo en todo el mundo para visitar nuestras instalaciones de fabricación y tener una cooperación ganadora con nosotros!
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