2019 Gas de grabado de buena calidad 99,999% Pureza CF4 Tetrafluorometano CF4 Gas

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Nuestra empresa tiene como objetivo operar fielmente, sirviendo a todos nuestros clientes potenciales y trabajando en nuevas tecnologías y nuevas máquinas con frecuencia paraChina Gas CF4 y gas de tetrafluoruro de carbono, La satisfacción del cliente es siempre nuestra búsqueda, crear valor para los clientes es siempre nuestro deber, lo que estamos haciendo es una relación comercial de beneficio mutuo a largo plazo.Somos un socio absolutamente confiable en su caso en China.Por supuesto, también se pueden ofrecer otros servicios, como consultoría.

Parámetros técnicos

El tetrafluoruro de carbono es un hidrocarburo halogenado con la fórmula química CF4.Puede considerarse como un hidrocarburo halogenado, metano halogenado, perfluorocarbono o como un compuesto inorgánico.El tetrafluoruro de carbono es un gas incoloro e inodoro, insoluble en agua, soluble en benceno y cloroformo.Estable a temperatura y presión normales, evite oxidantes fuertes, materiales inflamables o combustibles.Gas no combustible, la presión interna del contenedor aumentará cuando se exponga a altas temperaturas y existe el peligro de agrietamiento y explosión.Es químicamente estable y no inflamable.Solo el reactivo líquido de amoníaco-sodio metálico puede funcionar a temperatura ambiente.El tetrafluoruro de carbono es un gas que provoca el efecto invernadero.Es muy estable, puede permanecer en la atmósfera durante mucho tiempo y es un gas de efecto invernadero muy potente.El tetrafluoruro de carbono se utiliza en el proceso de grabado con plasma de varios circuitos integrados.También se usa como gas láser y se usa en refrigerantes de baja temperatura, solventes, lubricantes, materiales aislantes y refrigerantes para detectores infrarrojos.Es el gas de grabado por plasma más utilizado en la industria microelectrónica.Es una mezcla de gas de tetrafluorometano de alta pureza y gas de tetrafluorometano de alta pureza y oxígeno de alta pureza.Puede ser ampliamente utilizado en silicio, dióxido de silicio, nitruro de silicio y vidrio de fosfosilicato.El grabado de materiales de película delgada como tungsteno y tungsteno también se usa ampliamente en la limpieza de superficies de dispositivos electrónicos, producción de células solares, tecnología láser, refrigeración a baja temperatura, inspección de fugas y detergente en la producción de circuitos impresos.Utilizado como refrigerante de baja temperatura y tecnología de grabado en seco de plasma para circuitos integrados.Precauciones de almacenamiento: Almacenar en un almacén de gas no combustible fresco y ventilado.Mantener alejado del fuego y fuentes de calor.La temperatura de almacenamiento no debe exceder los 30°C.Debe almacenarse separado de combustibles y oxidantes fácilmente (combustibles), y evitar el almacenamiento mixto.El área de almacenamiento debe estar equipada con equipos de tratamiento de emergencia de fugas.

Solicitud:

① Refrigerante:

El tetrafluorometano se utiliza a veces como refrigerante a baja temperatura.

② Grabado:

Se utiliza en la microfabricación de productos electrónicos solo o en combinación con oxígeno como grabador de plasma para silicio, dióxido de silicio y nitruro de silicio.

Paquete normal:

Ventaja:

①Alta pureza, última instalación;

②Fabricante certificado ISO;

③Entrega rápida;

④Sistema de análisis en línea para control de calidad en cada paso;

⑤Alto requisito y proceso meticuloso para manipular el cilindro antes del llenado;Nuestra empresa tiene como objetivo operar fielmente, servir a todos nuestros prospectos y trabajar en nuevas tecnologías y nuevas máquinas con frecuencia para 2019 Gas de grabado de buena calidad 99.999% Pureza CF4 Tetrafluorometano CF4 Gas, Damos la bienvenida de todo corazón a los clientes de todo el mundo que parecen visitar nuestra fabricación. instalación y tener una cooperación de beneficio mutuo con nosotros!
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