Gases especiales
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Tetrafluoruro de azufre (SF4)
N.º EINECS: 232-013-4
N.º CAS: 7783-60-0 -
Óxido nitroso (N2O)
El óxido nitroso, también conocido como gas de la risa, es una sustancia química peligrosa con la fórmula química N₂O. Es un gas incoloro y de olor dulce. El N₂O es un oxidante que puede favorecer la combustión bajo ciertas condiciones, pero es estable a temperatura ambiente y tiene un ligero efecto anestésico. Además, puede provocar risa. -
Tetrafluoruro de carbono (CF4)
El tetrafluoruro de carbono, también conocido como tetrafluorometano, es un gas incoloro a temperatura y presión normales, insoluble en agua. El gas CF4 es actualmente el gas de grabado por plasma más utilizado en la industria microelectrónica. También se emplea como gas láser, refrigerante criogénico, disolvente, lubricante, material aislante y refrigerante para tubos detectores de infrarrojos. -
Fluoruro de sulfurilo (F2O2S)
El fluoruro de sulfurilo (SO2F2), un gas tóxico, se utiliza principalmente como insecticida. Debido a sus características de alta difusión y permeabilidad, amplio espectro de acción, baja dosificación, baja cantidad residual, rápida acción insecticida, corto tiempo de dispersión, facilidad de uso a bajas temperaturas, ausencia de efecto sobre la tasa de germinación y baja toxicidad, el fluoruro de sulfurilo se utiliza cada vez más en almacenes, buques de carga, edificios, embalses, control de termitas, etc. -
Silano (SiH4)
El silano (SiH4) es un gas comprimido incoloro, tóxico y muy reactivo a temperatura y presión normales. Se utiliza ampliamente en el crecimiento epitaxial de silicio, como materia prima para polisilicio, óxido de silicio, nitruro de silicio, etc., en células solares, fibras ópticas, fabricación de vidrio coloreado y deposición química de vapor. -
Octafluorociclobutano (C4F8)
Octafluorociclobutano C4F8, pureza del gas: 99,999%, se utiliza frecuentemente como propulsor de aerosoles alimentarios y gas portador. Se emplea a menudo en el proceso PECVD (deposición química en fase vapor asistida por plasma) de semiconductores, donde se utiliza como sustituto del CF4 o el C2F6, como gas de limpieza y gas de grabado en procesos de semiconductores. -
Óxido nítrico (NO)
El óxido nítrico es un compuesto de nitrógeno con la fórmula química NO. Es un gas incoloro, inodoro y venenoso, insoluble en agua. El óxido nítrico es químicamente muy reactivo y reacciona con el oxígeno para formar dióxido de nitrógeno (NO₂), un gas corrosivo. -
Cloruro de hidrógeno (HCl)
El cloruro de hidrógeno (HCl) es un gas incoloro con un olor penetrante. Su solución acuosa se denomina ácido clorhídrico. El cloruro de hidrógeno se utiliza principalmente en la fabricación de colorantes, especias, medicamentos, diversos cloruros e inhibidores de corrosión. -
Hexafluoropropileno (C3F6)
El hexafluoropropileno, cuya fórmula química es C3F6, es un gas incoloro a temperatura y presión normales. Se utiliza principalmente para la elaboración de diversos productos químicos finos que contienen flúor, intermedios farmacéuticos, agentes extintores, etc., y también puede emplearse para la preparación de materiales poliméricos que contienen flúor. -
Amoníaco (NH3)
El amoníaco líquido/amoniaco anhidro es una importante materia prima química con una amplia gama de aplicaciones. Se utiliza como refrigerante. Se emplea principalmente en la producción de ácido nítrico, urea y otros fertilizantes químicos, y también como materia prima para medicamentos y pesticidas. En la industria de defensa, se utiliza para fabricar propelentes para cohetes y misiles.
