Tetrafluoruro de carbono (CF4)

Breve descripción:

El tetrafluoruro de carbono, también conocido como tetrafluorometano, es un gas incoloro a temperatura y presión normales, insoluble en agua.El gas CF4 es actualmente el gas de grabado por plasma más utilizado en la industria microelectrónica.También se utiliza como gas láser, refrigerante criogénico, solvente, lubricante, material aislante y refrigerante para tubos detectores de infrarrojos.


Detalle del producto

Etiquetas de productos

Parámetros técnicos

Especificación 99.999%
Oxígeno+Argón ≤1ppm
Nitrógeno ≤4ppm
Humedad (H2O) ≤3ppm
HF ≤0,1 ppm
CO ≤0,1 ppm
CO2 ≤1ppm
SF6 ≤1ppm
halocarbinos ≤1ppm
impurezas totales ≤10ppm

El tetrafluoruro de carbono es un hidrocarburo halogenado con la fórmula química CF4.Puede considerarse como un hidrocarburo halogenado, metano halogenado, perfluorocarbono o como un compuesto inorgánico.El tetrafluoruro de carbono es un gas incoloro e inodoro, insoluble en agua, soluble en benceno y cloroformo.Estable a temperatura y presión normales, evite oxidantes fuertes, materiales inflamables o combustibles.Gas no combustible, la presión interna del contenedor aumentará cuando se exponga a altas temperaturas y existe el peligro de agrietamiento y explosión.Es químicamente estable y no inflamable.Solo el reactivo líquido de amoníaco-sodio metálico puede funcionar a temperatura ambiente.El tetrafluoruro de carbono es un gas que provoca el efecto invernadero.Es muy estable, puede permanecer en la atmósfera durante mucho tiempo y es un gas de efecto invernadero muy potente.El tetrafluoruro de carbono se utiliza en el proceso de grabado con plasma de varios circuitos integrados.También se usa como gas láser y se usa en refrigerantes de baja temperatura, solventes, lubricantes, materiales aislantes y refrigerantes para detectores infrarrojos.Es el gas de grabado por plasma más utilizado en la industria microelectrónica.Es una mezcla de gas de tetrafluorometano de alta pureza y gas de tetrafluorometano de alta pureza y oxígeno de alta pureza.Puede ser ampliamente utilizado en silicio, dióxido de silicio, nitruro de silicio y vidrio de fosfosilicato.El grabado de materiales de película delgada como tungsteno y tungsteno también se usa ampliamente en la limpieza de superficies de dispositivos electrónicos, producción de células solares, tecnología láser, refrigeración a baja temperatura, inspección de fugas y detergente en la producción de circuitos impresos.Utilizado como refrigerante de baja temperatura y tecnología de grabado en seco de plasma para circuitos integrados.Precauciones de almacenamiento: Almacenar en un almacén de gas no combustible fresco y ventilado.Mantener alejado del fuego y fuentes de calor.La temperatura de almacenamiento no debe exceder los 30°C.Debe almacenarse separado de combustibles y oxidantes fácilmente (combustibles), y evitar el almacenamiento mixto.El área de almacenamiento debe estar equipada con equipos de tratamiento de emergencia de fugas.

Solicitud:

① Refrigerante:

El tetrafluorometano se utiliza a veces como refrigerante a baja temperatura.

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② Grabado:

Se utiliza en la microfabricación de productos electrónicos solo o en combinación con oxígeno como grabador de plasma para silicio, dióxido de silicio y nitruro de silicio.

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Paquete normal:

Producto tetrafluoruro de carbonoCF4
Tamaño del paquete Cilindro de 40 litros Cilindro de 50 litros  
Peso neto de llenado/cilindro 30Kgs 38Kgs  
CANTIDAD cargada en contenedor de 20' 250 cilindros 250 cilindros
Peso Neto Total 7,5 toneladas 9,5 toneladas
Peso de tara del cilindro 50Kgs 55 kg
Válvula CGA 580

Ventaja:

①Alta pureza, última instalación;

②Fabricante certificado ISO;

③Entrega rápida;

④Sistema de análisis en línea para control de calidad en cada paso;

⑤Alto requisito y proceso meticuloso para manipular el cilindro antes del llenado;


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