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Especificación | 99.999% |
Oxígeno+argón | ≤1ppm |
Nitrógeno | ≤4 ppm |
Humedad (H2O) | ≤3 ppm |
HF | ≤0.1 ppm |
CO | ≤0.1 ppm |
CO2 | ≤1 ppm |
SF6 | ≤1 ppm |
Halocarbynes | ≤1 ppm |
Impurezas totales | ≤10 ppm |
El tetrafluoruro de carbono es un hidrocarburo halogenado con la fórmula química CF4. Se puede considerar como un hidrocarburo halogenado, metano halogenado, perfluorocarbono o como un compuesto inorgánico. El tetrafluoruro de carbono es un gas incoloro e inodoro, insoluble en agua, soluble en benceno y cloroformo. Estable bajo temperatura y presión normales, evite oxidantes fuertes, materiales inflamables o combustibles. Gas no combustible, la presión interna del contenedor aumentará cuando se exponga al alto calor, y existe el peligro de agrietarse y explosión. Es químicamente estable y no inflable. Solo el reactivo de metal de amonium-sodio líquido puede funcionar a temperatura ambiente. El tetrafluoruro de carbono es un gas que causa el efecto invernadero. Es muy estable, puede permanecer en la atmósfera durante mucho tiempo y es un gas de efecto invernadero muy poderoso. El tetrafluoruro de carbono se usa en el proceso de grabado de plasma de varios circuitos integrados. También se usa como gas láser, y se usa en refrigerantes de baja temperatura, solventes, lubricantes, materiales aislantes y refrigerantes para detectores infrarrojos. Es el gas de grabado de plasma más utilizado en la industria de la microelectrónica. Es una mezcla de gases de alta pureza de tetrafluorometano y gas de alta pureza de tetrafluorometano y oxígeno de alta pureza. Se puede usar ampliamente en silicio, dióxido de silicio, nitruro de silicio y vidrio de fosfosilicato. El grabado de materiales de película delgada como tungsteno y tungsteno también se usa ampliamente en la limpieza de la superficie de dispositivos electrónicos, producción de células solares, tecnología láser, refrigeración a baja temperatura, inspección de fugas y detergente en la producción de circuitos impresos. Utilizado como una tecnología de grabado en seco y refrigerador de plasma a baja temperatura para circuitos integrados. Precauciones para el almacenamiento: almacene en un almacén de gas sin combustible ventilado y ventilado. Manténgase alejado de las fuentes de fuego y calor. La temperatura de almacenamiento no debe exceder los 30 ° C. Debe almacenarse por separado de combustibles y oxidantes fácilmente (combustibles), y evitar el almacenamiento mixto. El área de almacenamiento debe equiparse con equipos de tratamiento de emergencia de fuga.
① Refrigerante:
El tetrafluorometano a veces se usa como refrigerante a baja temperatura.
② Grabado:
Se usa en microfabricación electrónica sola o en combinación con oxígeno como grabado en plasma para silicio, dióxido de silicio y nitruro de silicio.
Producto | Carbon Tetrafluoride CF4 | ||
Tamaño del paquete | 40LTR cilindro | Cilindro 50ltr | |
Llenamiento de peso neto/cyl | 30 kgs | 38 kgs | |
Cantidad cargada en 20'Container | 250 cyls | 250 cyls | |
Peso neto total | 7.5 toneladas | 9.5 toneladas | |
Peso de la tara del cilindro | 50 kgs | 55 kgs | |
Válvula | CGA 580 |
① Algana pureza, última instalación;
②SO Fabricante de certificados;
③ entrega rápida;
④ Sistema de análisis de línea para control de calidad en cada paso;
⑤ Alto requisito y proceso meticuloso para manejar el cilindro antes de llenar;La organización defiende la filosofía de "ser No.1 en buena calidad, estar enraizada en el historial crediticio y la confiabilidad para el crecimiento", seguirá para proporcionar a los clientes anteriores y nuevos desde el hogar y en el extranjero de todo el extranjero para obtener una lista de precio barata para China 2018 TetRafluoride CF4 Gas, sinceramente, esperamos construir relaciones comerciales a largo plazo con usted y lo haremos con nuestro mejor servicio para usted.
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