Lista de precios económicos de gas CF4 de alta pureza de China para grabado en la industria de semiconductores

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Siguiendo su principio de "calidad, asistencia, rendimiento y crecimiento", hemos recibido la confianza y elogios de clientes nacionales e internacionales por nuestra lista de precios económicos de gas CF4 de alta pureza de China para el grabado de semiconductores. Nuestro concepto de servicio se basa en la honestidad, la agresividad, la ambición y la innovación. Con su apoyo, mejoraremos considerablemente.
Adhiriéndonos a su principio de “calidad, asistencia, rendimiento y crecimiento”, hemos obtenido la confianza y elogios de clientes nacionales e internacionales porGas refrigerante CF4 de China, Cilindro de gasNuestra empresa se adhiere a la filosofía empresarial de "Calidad ante todo, perfección permanente, orientación al cliente e innovación tecnológica". Trabajamos arduamente para seguir progresando, innovando en el sector y nos esforzamos al máximo para ser una empresa de primera clase. Nos esforzamos por construir un modelo de gestión científica, adquirir amplios conocimientos profesionales, desarrollar equipos y procesos de producción avanzados, para crear productos de primera calidad, precios razonables, un servicio de alta calidad y entregas rápidas, para ofrecerle un nuevo valor.

Parámetros técnicos

Especificación 99,999%
Oxígeno + Argón ≤1 ppm
Nitrógeno ≤4 ppm
Humedad (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0,1 ppm
CO ≤0,1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Halocarbinos ≤1 ppm
Impurezas totales ≤10 ppm

El tetrafluoruro de carbono es un hidrocarburo halogenado con la fórmula química CF₄. Puede considerarse un hidrocarburo halogenado, metano halogenado, perfluorocarbono o un compuesto inorgánico. El tetrafluoruro de carbono es un gas incoloro e inodoro, insoluble en agua, soluble en benceno y cloroformo. Es estable a temperatura y presión normales; evite oxidantes fuertes, materiales inflamables o combustibles. Es un gas no combustible; la presión interna del recipiente aumentará al exponerse a altas temperaturas, lo que conlleva peligro de agrietamiento y explosión. Es químicamente estable y no inflamable. Solo el reactivo metálico líquido de amoníaco-sodio puede funcionar a temperatura ambiente. El tetrafluoruro de carbono es un gas que causa el efecto invernadero. Es muy estable, puede permanecer en la atmósfera durante mucho tiempo y es un gas de efecto invernadero muy potente. El tetrafluoruro de carbono se utiliza en el proceso de grabado por plasma de diversos circuitos integrados. También se utiliza como gas láser y se utiliza en refrigerantes de baja temperatura, disolventes, lubricantes, materiales aislantes y refrigerantes para detectores infrarrojos. Es el gas de grabado de plasma más utilizado en la industria de la microelectrónica. Es una mezcla de gas de alta pureza de tetrafluorometano y gas de alta pureza de tetrafluorometano y oxígeno de alta pureza. Puede ser ampliamente utilizado en silicio, dióxido de silicio, nitruro de silicio y vidrio de fosfosilicato. El grabado de materiales de película delgada como el tungsteno y el tungsteno también se utiliza ampliamente en la limpieza de superficies de dispositivos electrónicos, la producción de células solares, la tecnología láser, la refrigeración de baja temperatura, la inspección de fugas y el detergente en la producción de circuitos impresos. Se utiliza como refrigerante de baja temperatura y tecnología de grabado en seco de plasma para circuitos integrados. Precauciones de almacenamiento: Almacenar en un almacén de gas no combustible, fresco y ventilado. Mantener alejado del fuego y fuentes de calor. La temperatura de almacenamiento no debe superar los 30 °C. Debe almacenarse separado de materiales combustibles y oxidantes fácilmente inflamables, y evitar el almacenamiento mixto. El área de almacenamiento debe estar equipada con equipos de tratamiento de emergencia para fugas.

Solicitud:

① Refrigerante:

El tetrafluorometano se utiliza a veces como refrigerante de baja temperatura.

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② Grabado:

Se utiliza en la microfabricación de productos electrónicos solo o en combinación con oxígeno como agente de grabado de plasma para silicio, dióxido de silicio y nitruro de silicio.

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Paquete normal:

Producto Tetrafluoruro de carbono CF4
Tamaño del paquete Cilindro de 40 litros Cilindro de 50 litros  
Peso neto de llenado/cilindro 30 kg 38 kg  
Cantidad cargada en contenedor de 20' 250 cilindros 250 cilindros
Peso neto total 7,5 toneladas 9,5 toneladas
Peso tara del cilindro 50 kg 55 kg
Válvula CGA 580

Ventaja:

①Alta pureza, última instalación;

②Fabricante con certificado ISO;

③Entrega rápida;

④Sistema de análisis en línea para el control de calidad en cada paso;

5. Altos requisitos y proceso meticuloso para manipular el cilindro antes del llenado;Siguiendo su principio de "calidad, asistencia, rendimiento y crecimiento", hemos recibido la confianza y elogios de clientes nacionales e internacionales por nuestra lista de precios económicos de gas CF4 de alta pureza de China para el grabado de semiconductores. Nuestro concepto de servicio se basa en la honestidad, la agresividad, la ambición y la innovación. Con su apoyo, mejoraremos considerablemente.
Lista de precios baratos paraGas refrigerante CF4 de China, Cilindro de gasNuestra empresa se adhiere a la filosofía empresarial de "Calidad ante todo, perfección permanente, orientación al cliente e innovación tecnológica". Trabajamos arduamente para seguir progresando, innovando en el sector y nos esforzamos al máximo para ser una empresa de primera clase. Nos esforzamos por construir un modelo de gestión científica, adquirir amplios conocimientos profesionales, desarrollar equipos y procesos de producción avanzados, para crear productos de primera calidad, precios razonables, un servicio de alta calidad y entregas rápidas, para ofrecerle un nuevo valor.


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