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Parámetros técnicos

Especificación 99.999%
Oxígeno+argón ≤1ppm
Nitrógeno ≤4 ppm
Humedad (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0.1 ppm
CO ≤0.1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Halocarbynes ≤1 ppm
Impurezas totales ≤10 ppm

El tetrafluoruro de carbono es un hidrocarburo halogenado con la fórmula química CF4. Se puede considerar como un hidrocarburo halogenado, metano halogenado, perfluorocarbono o como un compuesto inorgánico. El tetrafluoruro de carbono es un gas incoloro e inodoro, insoluble en agua, soluble en benceno y cloroformo. Estable bajo temperatura y presión normales, evite oxidantes fuertes, materiales inflamables o combustibles. Gas no combustible, la presión interna del contenedor aumentará cuando se exponga al alto calor, y existe el peligro de agrietarse y explosión. Es químicamente estable y no inflable. Solo el reactivo de metal de amonium-sodio líquido puede funcionar a temperatura ambiente. El tetrafluoruro de carbono es un gas que causa el efecto invernadero. Es muy estable, puede permanecer en la atmósfera durante mucho tiempo y es un gas de efecto invernadero muy poderoso. El tetrafluoruro de carbono se usa en el proceso de grabado de plasma de varios circuitos integrados. También se usa como gas láser, y se usa en refrigerantes de baja temperatura, solventes, lubricantes, materiales aislantes y refrigerantes para detectores infrarrojos. Es el gas de grabado de plasma más utilizado en la industria de la microelectrónica. Es una mezcla de gases de alta pureza de tetrafluorometano y gas de alta pureza de tetrafluorometano y oxígeno de alta pureza. Se puede usar ampliamente en silicio, dióxido de silicio, nitruro de silicio y vidrio de fosfosilicato. El grabado de materiales de película delgada como tungsteno y tungsteno también se usa ampliamente en la limpieza de la superficie de dispositivos electrónicos, producción de células solares, tecnología láser, refrigeración a baja temperatura, inspección de fugas y detergente en la producción de circuitos impresos. Utilizado como una tecnología de grabado en seco y refrigerador de plasma a baja temperatura para circuitos integrados. Precauciones para el almacenamiento: almacene en un almacén de gas sin combustible ventilado y ventilado. Manténgase alejado de las fuentes de fuego y calor. La temperatura de almacenamiento no debe exceder los 30 ° C. Debe almacenarse por separado de combustibles y oxidantes fácilmente (combustibles), y evitar el almacenamiento mixto. El área de almacenamiento debe equiparse con equipos de tratamiento de emergencia de fuga.

Solicitud:

① Refrigerante:

El tetrafluorometano a veces se usa como refrigerante a baja temperatura.

  fdrgr gregón

② Grabado:

Se usa en microfabricación electrónica sola o en combinación con oxígeno como grabado en plasma para silicio, dióxido de silicio y nitruro de silicio.

dsgre RGG

Paquete normal:

Producto Carbon Tetrafluoride CF4
Tamaño del paquete 40LTR cilindro Cilindro 50ltr  
Llenamiento de peso neto/cyl 30 kgs 38 kgs  
Cantidad cargada en 20'Container 250 cyls 250 cyls
Peso neto total 7.5 toneladas 9.5 toneladas
Peso de la tara del cilindro 50 kgs 55 kgs
Válvula CGA 580

Ventaja:

① Algana pureza, última instalación;

②SO Fabricante de certificados;

③ entrega rápida;

④ Sistema de análisis de línea para control de calidad en cada paso;

⑤ Alto requisito y proceso meticuloso para manejar el cilindro antes de llenar;


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