Outlets de fábrica China 8L Tetrafluoruro de carbono CF4 Gas

Con un enfoque de alta calidad confiable, una gran reputación y una excelente atención al cliente, la serie de productos y soluciones producidas por nuestra empresa se exportan a muchos países y regiones para los puntos de venta de fábricas.China 8L Tetrafluoruro de carbono CF4 Gas, Da la bienvenida a todos los amigos y comerciantes extranjeros para establecer la colaboración con nosotros. Le proporcionaremos un servicio honesto, de alta calidad y eficiente para cumplir con sus requisitos.
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Parámetros técnicos

El tetrafluoruro de carbono es un hidrocarburo halogenado con la fórmula química CF4. Se puede considerar como un hidrocarburo halogenado, metano halogenado, perfluorocarbono o como un compuesto inorgánico. El tetrafluoruro de carbono es un gas incoloro e inodoro, insoluble en agua, soluble en benceno y cloroformo. Estable bajo temperatura y presión normales, evite oxidantes fuertes, materiales inflamables o combustibles. Gas no combustible, la presión interna del contenedor aumentará cuando se exponga al alto calor, y existe el peligro de agrietarse y explosión. Es químicamente estable y no inflable. Solo el reactivo de metal de amonium-sodio líquido puede funcionar a temperatura ambiente. El tetrafluoruro de carbono es un gas que causa el efecto invernadero. Es muy estable, puede permanecer en la atmósfera durante mucho tiempo y es un gas de efecto invernadero muy poderoso. El tetrafluoruro de carbono se usa en el proceso de grabado de plasma de varios circuitos integrados. También se usa como gas láser, y se usa en refrigerantes de baja temperatura, solventes, lubricantes, materiales aislantes y refrigerantes para detectores infrarrojos. Es el gas de grabado de plasma más utilizado en la industria de la microelectrónica. Es una mezcla de gases de alta pureza de tetrafluorometano y gas de alta pureza de tetrafluorometano y oxígeno de alta pureza. Se puede usar ampliamente en silicio, dióxido de silicio, nitruro de silicio y vidrio de fosfosilicato. El grabado de materiales de película delgada como tungsteno y tungsteno también se usa ampliamente en la limpieza de la superficie de dispositivos electrónicos, producción de células solares, tecnología láser, refrigeración a baja temperatura, inspección de fugas y detergente en la producción de circuitos impresos. Utilizado como una tecnología de grabado en seco y refrigerador de plasma a baja temperatura para circuitos integrados. Precauciones para el almacenamiento: almacene en un almacén de gas sin combustible ventilado y ventilado. Manténgase alejado de las fuentes de fuego y calor. La temperatura de almacenamiento no debe exceder los 30 ° C. Debe almacenarse por separado de combustibles y oxidantes fácilmente (combustibles), y evitar el almacenamiento mixto. El área de almacenamiento debe equiparse con equipos de tratamiento de emergencia de fuga.

Solicitud:

① Refrigerante:

El tetrafluorometano a veces se usa como refrigerante a baja temperatura.

② Grabado:

Se usa en microfabricación electrónica sola o en combinación con oxígeno como grabado en plasma para silicio, dióxido de silicio y nitruro de silicio.

Paquete normal:

Ventaja:

① Algana pureza, última instalación;

②SO Fabricante de certificados;

③ entrega rápida;

④ Sistema de análisis de línea para control de calidad en cada paso;

⑤ Alto requisito y proceso meticuloso para manejar el cilindro antes de llenar;Con un enfoque de alta calidad confiable, una gran reputación y una excelente atención al cliente, la serie de productos y soluciones producidas por nuestra empresa se exportan a muchos países y regiones para los puntos de venta de fábricas China 8L Tetrafluoride CF4 Gas, le da la bienvenida a todos los amigos y comerciantes en el extranjero para establecer colaboración con los Estados Unidos. Le proporcionaremos un servicio honesto, de alta calidad y eficiente para cumplir con sus requisitos.
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