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Especificación | 99.999% |
Oxígeno+argón | ≤1ppm |
Nitrógeno | ≤4 ppm |
Humedad (H2O) | ≤3 ppm |
HF | ≤0.1 ppm |
CO | ≤0.1 ppm |
CO2 | ≤1 ppm |
SF6 | ≤1 ppm |
Halocarbynes | ≤1 ppm |
Impurezas totales | ≤10 ppm |
El tetrafluoruro de carbono es un hidrocarburo halogenado con la fórmula química CF4. Se puede considerar como un hidrocarburo halogenado, metano halogenado, perfluorocarbono o como un compuesto inorgánico. El tetrafluoruro de carbono es un gas incoloro e inodoro, insoluble en agua, soluble en benceno y cloroformo. Estable bajo temperatura y presión normales, evite oxidantes fuertes, materiales inflamables o combustibles. Gas no combustible, la presión interna del contenedor aumentará cuando se exponga al alto calor, y existe el peligro de agrietarse y explosión. Es químicamente estable y no inflable. Solo el reactivo de metal de amonium-sodio líquido puede funcionar a temperatura ambiente. El tetrafluoruro de carbono es un gas que causa el efecto invernadero. Es muy estable, puede permanecer en la atmósfera durante mucho tiempo y es un gas de efecto invernadero muy poderoso. El tetrafluoruro de carbono se usa en el proceso de grabado de plasma de varios circuitos integrados. También se usa como gas láser, y se usa en refrigerantes de baja temperatura, solventes, lubricantes, materiales aislantes y refrigerantes para detectores infrarrojos. Es el gas de grabado de plasma más utilizado en la industria de la microelectrónica. Es una mezcla de gases de alta pureza de tetrafluorometano y gas de alta pureza de tetrafluorometano y oxígeno de alta pureza. Se puede usar ampliamente en silicio, dióxido de silicio, nitruro de silicio y vidrio de fosfosilicato. El grabado de materiales de película delgada como tungsteno y tungsteno también se usa ampliamente en la limpieza de la superficie de dispositivos electrónicos, producción de células solares, tecnología láser, refrigeración a baja temperatura, inspección de fugas y detergente en la producción de circuitos impresos. Utilizado como una tecnología de grabado en seco y refrigerador de plasma a baja temperatura para circuitos integrados. Precauciones para el almacenamiento: almacene en un almacén de gas sin combustible ventilado y ventilado. Manténgase alejado de las fuentes de fuego y calor. La temperatura de almacenamiento no debe exceder los 30 ° C. Debe almacenarse por separado de combustibles y oxidantes fácilmente (combustibles), y evitar el almacenamiento mixto. El área de almacenamiento debe equiparse con equipos de tratamiento de emergencia de fuga.
① Refrigerante:
El tetrafluorometano a veces se usa como refrigerante a baja temperatura.
② Grabado:
Se usa en microfabricación electrónica sola o en combinación con oxígeno como grabado en plasma para silicio, dióxido de silicio y nitruro de silicio.
Producto | Carbon Tetrafluoride CF4 | ||
Tamaño del paquete | 40LTR cilindro | Cilindro 50ltr | |
Llenamiento de peso neto/cyl | 30 kgs | 38 kgs | |
Cantidad cargada en 20'Container | 250 cyls | 250 cyls | |
Peso neto total | 7.5 toneladas | 9.5 toneladas | |
Peso de la tara del cilindro | 50 kgs | 55 kgs | |
Válvula | CGA 580 |
① Algana pureza, última instalación;
②SO Fabricante de certificados;
③ entrega rápida;
④ Sistema de análisis de línea para control de calidad en cada paso;
⑤ Alto requisito y proceso meticuloso para manejar el cilindro antes de llenar;Estamos convencidos de que con los esfuerzos conjuntos, la pequeña empresa entre nosotros nos traerá beneficios mutuos. Podríamos asegurarle un precio de venta competitivo de calidad de productos para la venta de fábrica de fábrica de venta caliente precio al por mayor de fábrica de fábrica 10l 6 kg 99.9% CF4 Gas, porque nos quedamos con esta línea unos 10 años. Obtuvimos el apoyo de proveedores más efectivo en excelente y costo. Y teníamos a los proveedores de maloses con poca calidad. Ahora varias fábricas OEM también cooperaron con nosotros.
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