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Todo el gas funcionó como material de láser llamado láser gas. Es el tipo más en el mundo, desarrollando la aplicación más rápida del láser más amplio. Una de las características más importantes del gas láser es el material de trabajo láser es el gas de mezcla o un solo gas puro.
La sustancia de trabajo utilizada por el láser de gas puede ser gas atómico, gas molecular, gas iónico ionizado y vapor metálico, etc., por lo que puede llamarse gas láser atómico (como láser de helio-neón) y gas láser molecular (como dióxido de carbono). Láser), gas láser de iones (como láser de argón), láser de vapor de metal (como láser de vapor de cobre). En términos generales, debido a las características inherentes del gas láser, hay algunas características resultantes de él; Las ventajas son: las moléculas de gas se distribuyen uniformemente y el nivel de energía es relativamente simple, por lo que la calidad de luz del gas láser es uniforme y coherente. Mejor; Además, la convección de las moléculas de gas y circulan más rápido, y son fáciles de enfriar. Una de las características más importantes del gas láser es que el material de trabajo láser es un gas mixto o un solo gas puro. La pureza del gas componente en el gas mixto láser afecta directamente el rendimiento del láser. En particular, la presencia de impurezas como el oxígeno, el agua e hidrocarburos en el gas causará la pérdida de la potencia de salida del láser en el espejo (superficie) y el electrodo, y también causará el lanzamiento inestable del láser. Una de las características importantes del gas láser de gas, la sustancia de trabajo del láser es un gas mixto o un solo gas puro. Por lo tanto, existen requisitos especiales para la pureza de los componentes de gas mixto láser. Los cilindros para empacar el gas mixto también deben secarse antes de llenarse para evitar la contaminación de gas mixto. Si el láser de helio (He) neón (NE) se usa como el láser de gas de primera generación, y el láser de dióxido de carbono es el láser de gas de segunda generación, el láser de fluoruro de krypton (KRF), que se usará ampliamente en el campo de fabricación de semiconductores, puede llamarse el láser de tercera generación. La mezcla de gas láser se utiliza en producción industrial, investigación científica y construcción de defensa nacional, cirugía médica y otros campos.
Categoría | Componente (%) | Gasolina |
Gas de mezcla láser he-ne | 2 ~ 8.3 NE | He |
Gas de mezcla láser de CO2 | 0.4H2+ 13.5Co2+ 4.5kr | / |
0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO | ||
0.4 H2+ 8CO2+ 8KR+ 4CO | ||
0.4 H2+ 6CO2+ 8KR+ 2CO | ||
0.4 H2+ 16CO2+ 16KR+ 4CO | ||
0.4 H2+ 8 ~ 12Co2+ 8 ~ 12kr | ||
Gas de mezcla láser KR-F2 | 5 KR+ 10 F2 | / |
5kr+ 1 ~ 0.2 F2 | ||
Gas láser de haz sellado | 18.5n2+ 3xe+ 2.5co | / |
Láser excimer | 25.8NE+ 9.8AR+ 0.004N2+ 1F2 | Ar |
25.8NE+ 9.8AR+ 0.004N2+ 5F2 | He | |
25.8NE+ 9.8AR+ 0.004N2+ 0.2F2 | He | |
25.8NE+ 9.8AR+ 0.004N2+ 5HCL | Ar |
① Producción agrícola industrial:
Se utiliza ampliamente en producción agrícola industrial, investigación científica y defensa nacional.
② Cirugía médica:
Se usa para cirugía médica.
③ Procesamiento de láser:
Se utiliza para el procesamiento láser, como el corte de cerámica de metal, la soldadura y la perforación.
Tiempo de entrega: 15-30 días hábiles después de recibir el depósito
Paquete estándar: 10L, 47L o 50L Cilindro.
① Algana pureza, última instalación;
②SO Fabricante de certificados;
③ entrega rápida;
④ Sistema de análisis de línea para control de calidad en cada paso;
⑤ Alto requisito y proceso meticuloso para manejar el cilindro antes de llenar;Con un método de buena calidad de confianza, un historial fantástico y un servicio de consumo perfecto, la serie de soluciones producidas por nuestra empresa se exportan a muchos países y regiones para OEM Supply 2023 Excimer Lásers mezcla de gas premezcla ARF XEF KRF, tenemos certificación ISO 9001 y calificamos este producto. Over 16 años experiencias en fabricación en el diseño y diseño, por lo que nuestros productos presentan con la mejor calidad y el precio competitivo. ¡Bienvenido cooperación con nosotros!
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