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| Gases de combustible | CH4, C2H2, CO, |
| Gas de soldadura | Ar-he, AR-H2, AR-O2, AR-CO2, CO2, O2, N2, H2, AR-CO2, AR-HE-N2, |
| Gases líquidos | C2H4, SO2, CO2, NO2, N2O, C3F6, H2S, HCL, BCL3, BF3, SF6 |
| Gases de calibración | CH4-N2, NO-N2, H2S-N2, CO2-N2, SF6-N2, SIH4-HE |
| Gases de dopaje | Ash3, PH3, GEH4, B2H6, ASCL3, ASF3, H2S, BF3, BCL3, |
| Crecimiento cristalino | SiH4, SiHCL3, SICL4, B2H6, BCL3, ASH3, PH3, GEH4, AR, HE, H2 |
| Grabado de fase gaseosa | CL2, HCL, HF, HBR, SF6 |
| Grabado de plasma | SIF4, CF4, C3F8, CHF3, C2F6, NF3, SF6, BCL3, N2, AR, HE |
| Grabado de haz de iones | C3F8, CHF3, CCLF3, CF4 |
| Implantación de iones | ASF3, PF3, PH3, BF3, BCL3, SIF4, SF6, N2, H2 |
| Gases CVD | SiH4, SiH2Cl2, SICL4, NH3, NO, O2 |
| Gases diluyentes | N2, AR, HE, H2, CO2, N2O, O2 |
| Gases de dopaje | SiH4, SICL4, SI2H6, HCL, PH3, ASH3, B2H6, N2, AR, HE, H2 |
