Gas tetrafluoruro CF4 de buena calidad, fabricado en China en 2019 y por los principales fabricantes en 2018.

Nuestra misión debe ser convertirnos en un proveedor innovador de dispositivos digitales y de comunicación de alta tecnología al proporcionar un diseño y estilo de valor añadido, fabricación de clase mundial y capacidades de reparación para 2019 Buena calidad China 2018 Principal fabricante Suministro de gas tetrafluoruro CF4, Precio de venta competitivo con calidad superior y servicios satisfactorios que nos hacen ganar muchos más clientes. Queremos trabajar con usted y buscar la mejora continua.
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Parámetros técnicos

El tetrafluoruro de carbono es un hidrocarburo halogenado con la fórmula química CF4. Puede considerarse un hidrocarburo halogenado, metano halogenado, perfluorocarbono o un compuesto inorgánico. Es un gas incoloro e inodoro, insoluble en agua, soluble en benceno y cloroformo. Es estable a temperatura y presión normales, pero debe evitarse el contacto con oxidantes fuertes y materiales inflamables o combustibles. Al ser un gas no combustible, la presión interna del recipiente aumenta al exponerse a altas temperaturas, con el consiguiente riesgo de agrietamiento y explosión. Es químicamente estable y no inflamable. Solo el reactivo líquido de amoníaco-sodio metálico puede utilizarse a temperatura ambiente. El tetrafluoruro de carbono es un gas que contribuye al efecto invernadero. Es muy estable, puede permanecer en la atmósfera durante mucho tiempo y es un potente gas de efecto invernadero. Se utiliza en el proceso de grabado por plasma de diversos circuitos integrados. También se utiliza como gas láser y en refrigerantes de baja temperatura, disolventes, lubricantes, materiales aislantes y refrigerantes para detectores infrarrojos. Es el gas de grabado por plasma más utilizado en la industria microelectrónica. Es una mezcla de tetrafluorometano de alta pureza y oxígeno de alta pureza. Se puede utilizar ampliamente en silicio, dióxido de silicio, nitruro de silicio y vidrio de fosfosilicato. El grabado de materiales de película delgada como el tungsteno y el tungsteno también se utiliza ampliamente en la limpieza de superficies de dispositivos electrónicos, producción de células solares, tecnología láser, refrigeración de baja temperatura, inspección de fugas y detergente en la producción de circuitos impresos. Se utiliza como refrigerante de baja temperatura y tecnología de grabado seco por plasma para circuitos integrados. Precauciones para el almacenamiento: Almacenar en un almacén de gases no combustibles fresco y ventilado. Mantener alejado del fuego y fuentes de calor. La temperatura de almacenamiento no debe exceder los 30 °C. Debe almacenarse separado de materiales combustibles y oxidantes fácilmente inflamables, evitando el almacenamiento conjunto. El área de almacenamiento debe estar equipada con un sistema de tratamiento de emergencia para fugas.

Solicitud:

① Refrigerante:

El tetrafluorometano se utiliza a veces como refrigerante de baja temperatura.

② Grabado:

Se utiliza en la microfabricación de componentes electrónicos, solo o en combinación con oxígeno, como agente de grabado por plasma para silicio, dióxido de silicio y nitruro de silicio.

Paquete normal:

Ventaja:

①Alta pureza, instalaciones de última generación;

②Fabricante con certificado ISO;

③Entrega rápida;

④Sistema de análisis en línea para el control de calidad en cada etapa;

⑤Exigencias elevadas y un proceso meticuloso para la manipulación del cilindro antes del llenado;Nuestra misión debe ser convertirnos en un proveedor innovador de dispositivos digitales y de comunicación de alta tecnología al proporcionar un diseño y estilo de valor añadido, fabricación de clase mundial y capacidades de reparación para 2019 Buena calidad China 2018 Principal fabricante Suministro de gas tetrafluoruro CF4, Precio de venta competitivo con calidad superior y servicios satisfactorios que nos hacen ganar muchos más clientes. Queremos trabajar con usted y buscar la mejora continua.
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