El gas láser se utiliza principalmente para recocido láser y gas litográfico en la industria electrónica.Beneficiándose de la innovación de las pantallas de los teléfonos móviles y la expansión de las áreas de aplicación, la escala del mercado del polisilicio de baja temperatura se ampliará aún más y el proceso de recocido por láser ha mejorado significativamente el rendimiento de los TFT.Entre los gases de neón, flúor y argón utilizados en el láser excimer ArF para la fabricación de semiconductores, el neón representa más del 96 % de la mezcla de gases del láser.Con el refinamiento de la tecnología de semiconductores, ha aumentado el uso de láseres excimer, y la introducción de la tecnología de doble exposición ha llevado a un fuerte aumento en la demanda de gas neón consumido por los láseres excimer ArF.Beneficiándose de la promoción de la localización de gases electrónicos especiales, los fabricantes nacionales tendrán un mejor espacio de crecimiento del mercado en el futuro.
La máquina de litografía es el equipo central de la fabricación de semiconductores.La litografía define el tamaño de los transistores.El desarrollo coordinado de la cadena de la industria de la litografía es la clave para el avance de la máquina de litografía.Los materiales semiconductores correspondientes, como la fotorresistencia, el gas de fotolitografía, la fotomáscara y los equipos de recubrimiento y revelado, tienen un alto contenido tecnológico.El gas de litografía es el gas que genera la máquina de litografía con láser ultravioleta profundo.Diferentes gases de litografía pueden producir fuentes de luz de diferentes longitudes de onda, y su longitud de onda afecta directamente la resolución de la máquina de litografía, que es uno de los núcleos de la máquina de litografía.En 2020, las ventas globales totales de máquinas de litografía serán de 413 unidades, de las cuales las ventas de ASML 258 unidades representaron el 62 %, las ventas de Canon 122 unidades representaron el 30 % y las ventas de Nikon 33 unidades representaron el 8 %.
Hora de publicación: 15-oct-2021
