Gases especiales
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Tetrafluoruro de azufre (SF4)
Nº EINECS: 232-013-4
NÚMERO CAS: 7783-60-0 -
Óxido Nitroso (N2O)
El óxido nitroso, también conocido como gas de la risa, es una sustancia química peligrosa con la fórmula química N2O. Es un gas incoloro y de olor dulce. El N2O es un oxidante que puede favorecer la combustión en determinadas condiciones, pero es estable a temperatura ambiente y tiene un ligero efecto anestésico. y puede hacer reír a la gente. -
Tetrafluoruro de carbono (CF4)
El tetrafluoruro de carbono, también conocido como tetrafluorometano, es un gas incoloro a temperatura y presión normales, insoluble en agua. El gas CF4 es actualmente el gas de grabado por plasma más utilizado en la industria microelectrónica. También se utiliza como gas láser, refrigerante criogénico, disolvente, lubricante, material aislante y refrigerante para tubos detectores de infrarrojos. -
Fluoruro de sulfurilo (F2O2S)
El fluoruro de sulfurilo SO2F2, un gas venenoso, se utiliza principalmente como insecticida. Debido a que el fluoruro de sulfurilo tiene las características de fuerte difusión y permeabilidad, insecticida de amplio espectro, dosis baja, cantidad residual baja, velocidad insecticida rápida, tiempo de dispersión de gas corto, uso conveniente a baja temperatura, sin efecto sobre la tasa de germinación y baja toxicidad, más Se utiliza cada vez más en almacenes, buques de carga, edificios, presas de embalses, prevención de termitas, etc. -
Silano (SiH4)
El silano SiH4 es un gas comprimido incoloro, tóxico y muy activo a temperatura y presión normales. El silano se usa ampliamente en el crecimiento epitaxial de silicio, materias primas para polisilicio, óxido de silicio, nitruro de silicio, etc., células solares, fibras ópticas, fabricación de vidrio coloreado y deposición química de vapor. -
Octafluorociclobutano (C4F8)
Octafluorociclobutano C4F8, pureza del gas: 99,999%, utilizado a menudo como propulsor de aerosoles alimentarios y gas medio. A menudo se usa en el proceso de semiconductores PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor Deposition), C4F8 se usa como sustituto de CF4 o C2F6, se usa como gas de limpieza y gas de grabado en procesos de semiconductores. -
Óxido Nítrico (NO)
El gas óxido nítrico es un compuesto de nitrógeno con la fórmula química NO. Es un gas incoloro, inodoro y venenoso que es insoluble en agua. El óxido nítrico es químicamente muy reactivo y reacciona con el oxígeno para formar el gas corrosivo dióxido de nitrógeno (NO₂). -
Cloruro de hidrógeno (HCl)
El gas cloruro de hidrógeno HCL es un gas incoloro con un olor acre. Su solución acuosa se llama ácido clorhídrico, también conocido como ácido clorhídrico. El cloruro de hidrógeno se utiliza principalmente para fabricar tintes, especias, medicamentos, diversos cloruros e inhibidores de corrosión. -
Hexafluoropropileno (C3F6)
El hexafluoropropileno, fórmula química: C3F6, es un gas incoloro a temperatura y presión normales. Se utiliza principalmente para preparar diversos productos químicos finos que contienen flúor, productos intermedios farmacéuticos, agentes extintores de incendios, etc., y también se puede utilizar para preparar materiales poliméricos que contienen flúor. -
Amoníaco (NH3)
El amoníaco líquido/amoniaco anhidro es una materia prima química importante con una amplia gama de aplicaciones. El amoníaco líquido se puede utilizar como refrigerante. Se utiliza principalmente para producir ácido nítrico, urea y otros fertilizantes químicos, y también puede utilizarse como materia prima para medicamentos y pesticidas. En la industria de defensa, se utiliza para fabricar propulsores para cohetes y misiles.
