Gases especiales
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Tetrafluoruro de azufre (SF4)
Einecs No: 232-013-4
CAS No: 7783-60-0 -
Óxido nitroso (N2O)
El óxido nitroso, también conocido como gas risueño, es un químico peligroso con la fórmula química N2O. Es un gas incoloro y de olor dulce. N2O es un oxidante que puede soportar la combustión bajo ciertas condiciones, pero es estable a temperatura ambiente y tiene un ligero efecto anestésico. , y puede hacer reír a la gente. -
Tetrafluoruro de carbono (CF4)
El tetrafluoruro de carbono, también conocido como tetrafluorometano, es un gas incoloro a temperatura y presión normales, insoluble en agua. El gas CF4 es actualmente el gas de grabado de plasma más utilizado en la industria de la microelectrónica. También se usa como gas láser, refrigerante criogénico, disolvente, lubricante, material aislante y refrigerante para tubos detector infrarrojos. -
Fluoruro de sulfurilo (F2O2)
El fluoruro de sulfurilo SO2F2, gas venenoso, se usa principalmente como insecticida. Because sulfuryl fluoride has the characteristics of strong diffusion and permeability, broad-spectrum insecticide, low dosage, low residual amount, fast insecticidal speed, short gas dispersion time, convenient use at low temperature, no effect on germination rate and low toxicity, the more It is more and more widely used in warehouses, cargo ships, buildings, reservoir dams, termite prevention, etc. -
Silane (Sih4)
Silane Sih4 es un gas comprimido incoloro, tóxico y muy activo a temperatura y presión normales. El silano se usa ampliamente en el crecimiento epitaxial de silicio, materias primas para polisilicón, óxido de silicio, nitruro de silicio, etc., células solares, fibras ópticas, fabricación de vidrio de color y deposición de vapor químico. -
Octafluorociclobutano (C4F8)
Octafluorociclobutano C4F8, pureza de gas: 99.999%, a menudo utilizado como propulsor de aerosol de alimentos y gases medianos. A menudo se usa en el proceso de semiconductores PECVD (mejora del plasma. Deposición de vapor químico), C4F8 se usa como sustituto de CF4 o C2F6, utilizado como gas de limpieza y proceso de grabado de semiconductores. -
Óxido nítrico (no)
El gas de óxido nítrico es un compuesto de nitrógeno con la fórmula química no. Es un gas sin color, inodoro y venenoso que es insoluble en agua. El óxido nítrico es químicamente muy reactivo y reacciona con oxígeno para formar el dióxido de nitrógeno de gas corrosivo (NO₂). -
Cloruro de hidrógeno (HCL)
El gas HCl de cloruro de hidrógeno es un gas incoloro con un olor picante. Su solución acuosa se llama ácido clorhídrico, también conocido como ácido clorhídrico. El cloruro de hidrógeno se usa principalmente para hacer colorantes, especias, medicamentos, varios cloruros e inhibidores de la corrosión. -
Hexafluoropropileno (C3F6)
El hexafluoropropileno, la fórmula química: C3F6, es un gas incoloro a temperatura y presión normales. Se utiliza principalmente para preparar varios productos químicos finos que contienen flúor, intermedios farmacéuticos, agentes de extinción de incendios, etc., y también se pueden usar para preparar materiales de polímero que contienen flúor. -
Amoníaco (NH3)
El amoníaco líquido / amoníaco anhidro es una importante materia prima química con una amplia gama de aplicaciones. El amoníaco líquido se puede usar como refrigerante. Se usa principalmente para producir ácido nítrico, urea y otros fertilizantes químicos, y también puede usarse como materia prima para medicamentos y pesticidas. En la industria de defensa, se utiliza para hacer propulsores para cohetes y misiles.
