Gases especiales
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Tetrafluoruro de azufre (SF4)
N.º EINECS: 232-013-4
N.º CAS: 7783-60-0 -
Óxido nitroso (N2O)
El óxido nitroso, también conocido como gas de la risa, es una sustancia química peligrosa con la fórmula N₂O. Es un gas incoloro y de olor dulce. El N₂O es un oxidante que puede favorecer la combustión en ciertas condiciones, pero es estable a temperatura ambiente y tiene un ligero efecto anestésico, además de provocar risa. -
Tetrafluoruro de carbono (CF4)
El tetrafluoruro de carbono, también conocido como tetrafluorometano, es un gas incoloro a temperatura y presión normales, insoluble en agua. El gas CF₄ es actualmente el gas de grabado de plasma más utilizado en la industria microelectrónica. También se utiliza como gas láser, refrigerante criogénico, disolvente, lubricante, material aislante y refrigerante para tubos detectores infrarrojos. -
Fluoruro de sulfurilo (F2O2S)
El fluoruro de sulfurilo SO₂F₂, un gas venenoso, se utiliza principalmente como insecticida. Gracias a sus características de alta difusión y permeabilidad, amplio espectro de acción, baja dosificación, baja cantidad residual, rápida acción insecticida, corto tiempo de dispersión del gas, fácil uso a bajas temperaturas, ausencia de efectos sobre la tasa de germinación y baja toxicidad, su uso es cada vez más común en almacenes, buques de carga, edificios, presas, prevención de termitas, etc. -
Silano (SiH4)
El silano SiH₄ es un gas comprimido incoloro, tóxico y muy activo a temperatura y presión normales. Se utiliza ampliamente en el crecimiento epitaxial de silicio, como materia prima para polisilicio, óxido de silicio, nitruro de silicio, etc., células solares, fibras ópticas, fabricación de vidrio coloreado y deposición química de vapor. -
Octafluorociclobutano (C4F8)
Octafluorociclobutano C₄F₄, pureza del gas: 99,999 %, comúnmente utilizado como propelente de aerosoles alimentarios y gas de medios. Se utiliza frecuentemente en procesos de deposición química en fase de vapor (PECVD) de semiconductores. El C₄F₄ se utiliza como sustituto del CF₄ o C₂F₄, y se utiliza como gas de limpieza y gas de grabado de semiconductores. -
Óxido nítrico (NO)
El óxido nítrico gaseoso es un compuesto de nitrógeno con la fórmula química NO. Es un gas incoloro, inodoro y venenoso, insoluble en agua. El óxido nítrico es químicamente muy reactivo y reacciona con el oxígeno para formar dióxido de nitrógeno (NO₂), un gas corrosivo. -
Cloruro de hidrógeno (HCl)
El cloruro de hidrógeno (HCl) es un gas incoloro con un olor penetrante. Su solución acuosa se denomina ácido clorhídrico. El cloruro de hidrógeno se utiliza principalmente para fabricar tintes, especias, medicamentos, diversos cloruros e inhibidores de corrosión. -
Hexafluoropropileno (C3F6)
El hexafluoropropileno, de fórmula química C₃F₆, es un gas incoloro a temperatura y presión normales. Se utiliza principalmente para preparar diversos productos químicos finos con flúor, intermedios farmacéuticos, agentes extintores, etc., y también puede emplearse para preparar materiales poliméricos con flúor. -
Amoníaco (NH3)
El amoníaco líquido/amoníaco anhidro es una importante materia prima química con una amplia gama de aplicaciones. El amoníaco líquido puede utilizarse como refrigerante. Se emplea principalmente para producir ácido nítrico, urea y otros fertilizantes químicos, y también como materia prima para medicamentos y pesticidas. En la industria de defensa, se utiliza para fabricar propulsores para cohetes y misiles.
