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Oxígeno (O2)
El oxígeno es un gas incoloro e inodoro. Es la forma elemental más común del oxígeno. En cuanto a la tecnología, el oxígeno se extrae mediante el proceso de licuefacción del aire, y el oxígeno presente en el aire representa aproximadamente el 21%. El oxígeno es un gas incoloro e inodoro, con la fórmula química O₂, que es la forma elemental más común del oxígeno. Su punto de fusión es de -218,4 °C y su punto de ebullición, de -183 °C. No es fácilmente soluble en agua. Aproximadamente 30 ml de oxígeno se disuelven en 1 litro de agua, y el oxígeno líquido es de color azul cielo. -
Dióxido de azufre (SO2)
El dióxido de azufre (dióxido de azufre) es el óxido de azufre más común, simple e irritante, con la fórmula química SO₂. Es un gas incoloro y transparente con un olor penetrante. Soluble en agua, etanol y éter, el dióxido de azufre líquido es relativamente estable, inactivo, no combustible y no forma una mezcla explosiva con el aire. Tiene propiedades blanqueadoras. Se utiliza comúnmente en la industria para blanquear pulpa, lana, seda, sombreros de paja, etc. También puede inhibir el crecimiento de moho y bacterias. -
Óxido de etileno (ETO)
El óxido de etileno es uno de los éteres cíclicos más simples. Es un compuesto heterocíclico. Su fórmula química es C₂H₄O. Es un carcinógeno tóxico y un importante producto petroquímico. Sus propiedades químicas son muy activas. Puede experimentar reacciones de adición por apertura de anillo con numerosos compuestos y puede reducir el nitrato de plata. -
1,3-butadieno (C4H6)
El 1,3-butadieno es un compuesto orgánico con fórmula química C₄H₄. Es un gas incoloro con un ligero olor aromático y fácil de licuar. Es menos tóxico y su toxicidad es similar a la del etileno, pero causa una fuerte irritación en la piel y las mucosas, y tiene un efecto anestésico en altas concentraciones. -
Hidrógeno (H2)
El hidrógeno tiene una fórmula química de H₂ y un peso molecular de 2,01588. A temperatura y presión normales, es un gas extremadamente inflamable, incoloro, transparente, inodoro e insípido, difícil de disolver en agua y que no reacciona con la mayoría de las sustancias. -
Neón (Ne)
El neón es un gas noble incoloro, inodoro y no inflamable, con fórmula química Ne. Generalmente, se utiliza como gas de relleno para luces de neón de colores en publicidad exterior, así como para indicadores luminosos visuales y regulación de voltaje. También se utiliza como componente de mezclas de gases para láser. Gases nobles como el neón, el criptón y el xenón también se pueden utilizar para rellenar productos de vidrio y mejorar su rendimiento o función. -
Tetrafluoruro de carbono (CF4)
El tetrafluoruro de carbono, también conocido como tetrafluorometano, es un gas incoloro a temperatura y presión normales, insoluble en agua. El gas CF₄ es actualmente el gas de grabado de plasma más utilizado en la industria microelectrónica. También se utiliza como gas láser, refrigerante criogénico, disolvente, lubricante, material aislante y refrigerante para tubos detectores infrarrojos. -
Fluoruro de sulfurilo (F2O2S)
El fluoruro de sulfurilo SO₂F₂, un gas venenoso, se utiliza principalmente como insecticida. Gracias a sus características de alta difusión y permeabilidad, amplio espectro de acción, baja dosificación, baja cantidad residual, rápida acción insecticida, corto tiempo de dispersión del gas, fácil uso a bajas temperaturas, ausencia de efectos sobre la tasa de germinación y baja toxicidad, su uso es cada vez más común en almacenes, buques de carga, edificios, presas, prevención de termitas, etc. -
Silano (SiH4)
El silano SiH₄ es un gas comprimido incoloro, tóxico y muy activo a temperatura y presión normales. Se utiliza ampliamente en el crecimiento epitaxial de silicio, como materia prima para polisilicio, óxido de silicio, nitruro de silicio, etc., células solares, fibras ópticas, fabricación de vidrio coloreado y deposición química de vapor. -
Octafluorociclobutano (C4F8)
Octafluorociclobutano C₄F₄, pureza del gas: 99,999 %, se utiliza frecuentemente como propelente de aerosoles alimentarios y gas de medios. Se utiliza frecuentemente en procesos de deposición química en fase de vapor (PECVD) de semiconductores. El C₄F₄ se utiliza como sustituto del CF₄ o C₂F₄, y se utiliza como gas de limpieza y gas de grabado de semiconductores. -
Óxido nítrico (NO)
El óxido nítrico gaseoso es un compuesto de nitrógeno con la fórmula química NO. Es un gas incoloro, inodoro y tóxico, insoluble en agua. El óxido nítrico es químicamente muy reactivo y reacciona con el oxígeno para formar dióxido de nitrógeno (NO₂), un gas corrosivo. -
Cloruro de hidrógeno (HCl)
El cloruro de hidrógeno (HCl) es un gas incoloro con un olor penetrante. Su solución acuosa se denomina ácido clorhídrico. El cloruro de hidrógeno se utiliza principalmente para la fabricación de tintes, especias, medicamentos, diversos cloruros e inhibidores de corrosión.
