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Oxígeno (O2)
El oxígeno es un gas incoloro e inodoro. Es la forma elemental más común del oxígeno. En términos tecnológicos, el oxígeno se extrae del proceso de licuefacción del aire, y representa aproximadamente el 21% del aire. El oxígeno es un gas incoloro e inodoro con la fórmula química O₂, que es la forma elemental más común del oxígeno. Su punto de fusión es de -218,4 °C y su punto de ebullición es de -183 °C. No es fácilmente soluble en agua. Aproximadamente 30 ml de oxígeno se disuelven en 1 litro de agua, y el oxígeno líquido es de color azul celeste. -
Dióxido de azufre (SO2)
El dióxido de azufre es el óxido de azufre más común, simple e irritante, con la fórmula química SO₂. Es un gas incoloro y transparente con un olor penetrante. Soluble en agua, etanol y éter, el dióxido de azufre líquido es relativamente estable, inerte, no combustible y no forma mezclas explosivas con el aire. Posee propiedades blanqueadoras y se utiliza comúnmente en la industria para blanquear pulpa, lana, seda, sombreros de paja, etc. Además, puede inhibir el crecimiento de moho y bacterias. -
Óxido de etileno (ETO)
El óxido de etileno es uno de los éteres cíclicos más simples. Es un compuesto heterocíclico. Su fórmula química es C₂H₄O. Es un carcinógeno tóxico y un importante producto petroquímico. El óxido de etileno posee propiedades químicas muy activas. Puede experimentar reacciones de adición con apertura de anillo con numerosos compuestos y reducir el nitrato de plata. -
1,3-butadieno (C4H6)
El 1,3-butadieno es un compuesto orgánico con la fórmula química C4H6. Es un gas incoloro con un ligero olor aromático y se licúa fácilmente. Es menos tóxico, con una toxicidad similar a la del etileno, pero irrita fuertemente la piel y las mucosas, y tiene un efecto anestésico en altas concentraciones. -
Hidrógeno (H2)
El hidrógeno tiene la fórmula química H2 y un peso molecular de 2,01588. En condiciones normales de temperatura y presión, es un gas extremadamente inflamable, incoloro, transparente, inodoro e insípido, difícil de disolver en agua y que no reacciona con la mayoría de las sustancias. -
Neón (Ne)
El neón es un gas noble incoloro, inodoro e ininflamable con la fórmula química Ne. Generalmente, se utiliza como gas de relleno para luces de neón de colores en pantallas publicitarias exteriores, así como para indicadores luminosos y regulación de voltaje. También se emplea como componente de mezclas de gases láser. Los gases nobles como el neón, el kriptón y el xenón se utilizan además para rellenar productos de vidrio y mejorar su rendimiento o funcionalidad. -
Tetrafluoruro de carbono (CF4)
El tetrafluoruro de carbono, también conocido como tetrafluorometano, es un gas incoloro a temperatura y presión normales, insoluble en agua. El gas CF4 es actualmente el gas de grabado por plasma más utilizado en la industria microelectrónica. También se emplea como gas láser, refrigerante criogénico, disolvente, lubricante, material aislante y refrigerante para tubos detectores de infrarrojos. -
Fluoruro de sulfurilo (F2O2S)
El fluoruro de sulfurilo (SO2F2), un gas tóxico, se utiliza principalmente como insecticida. Debido a sus características de alta difusión y permeabilidad, amplio espectro de acción, baja dosificación, baja cantidad residual, rápida acción insecticida, corto tiempo de dispersión, facilidad de uso a bajas temperaturas, ausencia de efecto sobre la tasa de germinación y baja toxicidad, el fluoruro de sulfurilo se utiliza cada vez más en almacenes, buques de carga, edificios, embalses, control de termitas, etc. -
Silano (SiH4)
El silano (SiH4) es un gas comprimido incoloro, tóxico y muy reactivo a temperatura y presión normales. Se utiliza ampliamente en el crecimiento epitaxial de silicio, como materia prima para polisilicio, óxido de silicio, nitruro de silicio, etc., en células solares, fibras ópticas, fabricación de vidrio coloreado y deposición química de vapor. -
Octafluorociclobutano (C4F8)
Octafluorociclobutano C4F8, pureza del gas: 99,999%, se utiliza frecuentemente como propulsor de aerosoles alimentarios y gas portador. Se emplea a menudo en el proceso PECVD (deposición química en fase vapor asistida por plasma) de semiconductores, donde se utiliza como sustituto del CF4 o el C2F6, como gas de limpieza y gas de grabado en procesos de semiconductores. -
Óxido nítrico (NO)
El óxido nítrico es un compuesto de nitrógeno con la fórmula química NO. Es un gas incoloro, inodoro y venenoso, insoluble en agua. El óxido nítrico es químicamente muy reactivo y reacciona con el oxígeno para formar dióxido de nitrógeno (NO₂), un gas corrosivo. -
Cloruro de hidrógeno (HCl)
El cloruro de hidrógeno (HCl) es un gas incoloro con un olor penetrante. Su solución acuosa se denomina ácido clorhídrico. El cloruro de hidrógeno se utiliza principalmente en la fabricación de colorantes, especias, medicamentos, diversos cloruros e inhibidores de corrosión.
